L’éditeur Real Software livre aujourd’hui la 2011 Release 4 de son outil de développement Real Studio. Cette dernière corrige de nombreux bogues. Rappelons que Real Studio propose un mode de conception graphique avancé, qui permet de masquer une grande partie de la complexité du code. Les logiciels peuvent être déployés sous Windows, Mac OS X, Linux et en tant qu’applications web, le tout depuis un unique code source.
Au menu de cette version, la possibilité de dessiner des éléments graphiques en utilisant des canaux alpha, permettant ainsi de fixer le degré de transparence (ou d’opacité). Une avancée intéressante, qui permet de moderniser cette offre.
Sous Mac OS X, le support du framework Cocoa est en net progrès. Il est possible, pour ne pas dire probable, que la prochaine version de Real Studio propose l’utilisation de cette technologie par défaut. Il nous tarde que cela soit le cas, afin que l’éditeur s’attaque au chantier suivant : l’utilisation de LLVM.
Le monde Linux est lui aussi gâté. Les fonctions graphiques s’appuient dorénavant sur Cairo, avec à la clé un lissage des tracés, la gestion de la transparence et le support de l’accélération matérielle. Les développeurs ont profité de cette mise à jour pour revoir les fonctions d’impression, qui seront maintenant capables de gérer des tirages en haute résolution.
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